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首页 > 产品展示 > 马弗炉 > 真空管式炉 > VBF-1200X-H8真空管式炉 VBF-1200X-H8
 
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产品型号:
VBF-1200X-H8
产品名称:
真空管式炉 VBF-1200X-H8
产品报价:
产品特点:
真空管式炉的产品简介:
VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证,其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆,在真空或各种气氛下温度可达到1100℃,可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点,比一般的真空箱式炉更洁净,真空度能达到更高,是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、
  VBF-1200X-H8真空管式炉 VBF-1200X-H8的详细资料:


真空管式炉介绍:


产品名称:真空管式炉

产品型号: VBF-1200X-H8 


真空管式炉的主要特点:


高品质惨钼铁铬铝合金作为发热元件,可加热到1100℃高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用.不锈钢真空法兰带有高温O型硅胶圈内置30段可编程精密数字温度控制器精确控制加热速率,降温速率和恒温时间。


真空管式炉的技术参数:


1.工作温度:1000(最高连续使用温度1000,极限最高使用温度1100最多30分钟)。 
2. 加热元件:高质量的Ni-Cr-Al电阻丝,可加热到1100 
3.炉管尺寸:8" O.D. x 7.5" I.D x 13.4" L 
4.加热范围:7.5" ID x 8.5" Depth (7.6Liter) 
5.控温方式:智能化30段可编程控制 
6.恒温精度:±2 
7.工作电源:单相208-240 VAC 50/60HZ 
8.外型尺寸:510 x 435 x 425mm 

9.净重:80KG 


真空管式炉的产品规格:

 
1.外形尺寸:510 x 435 x 425mm 
2.净重:80KG 
3.产品证书: CE认证。


真空管式炉的产品简介:


VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证,其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆,在真空或各种气氛下温度可达到1100,可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点,比一般的真空箱式炉更洁净,真空度能达到更高,是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。 
注:我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环境体系的要求),不会造成环境污染; 
该产品符合含采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求,不会对接触产品的人员健康造成伤害! 

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